Atomic layer deposition of vanadium oxides: process and application review

Auteurs

V. P. Prasadam, N. Bahlawane, F. Mattelaer, G. Rampelberg, C. Detavernier, L. Fang, Y. Jiang, K. Martens, I. P. Parkin, and I. Papakonstantinou

Référence

Materials Today Chemistry, vol. 12, pp. 396-423, 2019

Lien

doi:10.1016/j.mtchem.2019.03.004

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